<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Format on UV Curing Solutions</title>
		<link>http://uv-curing-solutions.com/he/tags/format/</link>
		<description>Recent content in Format on UV Curing Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>he</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 05:48:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-solutions.com/he/tags/format/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>מנורת ריפוי UV לפורמט רחב</title>
				<link>http://uv-curing-solutions.com/he/posts/uv-curing-lamp-for-wide-format/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 05:48:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-solutions.com/he/posts/uv-curing-lamp-for-wide-format/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-solutions.com/images/09923ce49e22d0dee2d50917b93c7524.png&#34; alt=&#34;מנורת ריפוי UV לפורמט רחב&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;אם אתה מפעיל מדפסות UV אופסט, פלקסו או מסך בפורמט רחב, תהליך הריפוי אינו יכול להיות משחק ניחושים. אם עוצמת הקרינה השיא תסטה או שהפלט הספקטרלי ישתנה, הפוטואיניציאטורים בדיו לא יקשרו כראוי. התוצאה היא כשלי הידבקות, כתמים, נקבים — ואז המדפסת נאלצת להאט רק כדי לשמור על תהליך הריפוי אמין.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;מה-שחשוב-באמת-מתחת-לפני-השטח&#34;&gt;מה שחשוב באמת מתחת לפני השטח&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;אנו בונים מנורות ריפוי UV בפורמט רחב סביב רעיון אחד: אספקת פוטונים חוזרת ומדויקת. פליטת הקיטור של כספית משולבת עם רפלקטור מצופה דיכרואי כדי שהפלט יישאר ממוקד באורכי הגל הנדרשים — בדרך כלל 365 nm, 385 nm ו-405 nm — מבלי לשחרר אנרגיה רחבת פס לא במקום בו היא לא מועילה. עוצמת הקרינה השיא מתוכננת להגיע לצפיפות האנרגיה הנדרשת לדיו (mJ/cm²) במהירות הקו, ומושגת אחידות מרחבית הדוקה לאורך רוחב הריפוי המלא.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
